LDU-Bench：面向布局变化电路背景下光刻缺陷理解的多模态 LLM 评测

英文标题：LDU-Bench: Multimodal LLM Evaluation for Lithography Defect Understanding under Layout-Varying Circuit Backgrounds

LDU-Bench 是一项面向光刻缺陷理解的多模态大语言模型评测工作，重点考察电路布局背景发生变化时的模型表现。论文指出，多模态大语言模型已在工业异常检测中的缺陷识别任务上展现出较强能力。对于光刻审查而言，仅判断图像中是否存在缺陷并不足以满足工程检测需求，还需要理解缺陷与复杂电路布局背景之间的关系。该基准有望推动开发者评估和改进用于半导体制造检测、缺陷分析与审查辅助的 AI Agent 和多模态模型。

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